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2018-10-28 21:52:15

UV光解除臭設(shè)備原理

UV光解除臭設(shè)備原理 1。UV光解除臭設(shè)備是在外部可見光的作用下進(jìn)行的。UV光解除臭設(shè)備以半導(dǎo)體和空氣為催化劑,以光為能量將有機(jī)物降解為CO2和H2O。我公司使用的半導(dǎo)體是目前反應(yīng)

2018-10-26 18:13:23

UV光解除臭設(shè)備技術(shù)原理

UV光解除臭設(shè)備技術(shù)原理 是 UV光解除臭設(shè)備 +紫外線去除難聞的廢氣凈化器的完美結(jié)合兩種設(shè)備,綜合使用等離子體廢氣凈化器和紫外線光催化劑除臭劑排氣凈化器的***勢這兩個設(shè)備,使用

2018-10-25 22:34:10

UV光解除臭設(shè)備有距離要求嗎?

UV光解除臭設(shè)備有距離要求嗎? UV光解除臭設(shè)備有距離要求嗎? 廢除臭除臭設(shè)備有氣相異味控制系統(tǒng)、表面相異味控制系統(tǒng)和集中收集控制系統(tǒng)。主要采用智能霧化器、分解植物除臭劑、

2018-10-24 22:33:08

詳細(xì)介紹了等離子光氧一體機(jī)

詳細(xì)介紹了等離子光氧一體機(jī) 詳細(xì)介紹了等離子光氧一體機(jī)化 光化學(xué)和等離子光氧一體機(jī)化是一種先進(jìn)的氧化技術(shù)。光催化反應(yīng)是光作用下的化學(xué)反應(yīng)。光化學(xué)反應(yīng)需要分子吸收***定

2018-10-23 21:48:19

企業(yè)UV光解除臭設(shè)備整改原則

企業(yè)UV光解除臭設(shè)備整改原則 貫徹執(zhí)行***家和地方政府關(guān)于環(huán)境保護(hù)的基本***策,遵守有關(guān)法律、法規(guī)、規(guī)范和標(biāo)準(zhǔn);(2)結(jié)合施工單位的實際情況和施工要求,采用先進(jìn)的技術(shù)、可靠、高

2018-10-22 09:11:55

包裝印刷VOCs等離子光氧一體機(jī)印刷廢氣解決方案

包裝印刷VOCs等離子光氧一體機(jī)印刷廢氣解決方案 印刷廠廢氣的來源和主要組分:甲苯、苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、200溶劑油、乙醇、丁醇等。印刷過程中使用的油墨主要含有顏色、樹

2018-10-21 16:43:57

低溫等離子除臭設(shè)備 高效一體化等離子除煙霧除

臭氣工業(yè)廢氣低溫等離子設(shè)備低成本治理 有機(jī)廢氣凈化器zx系列有機(jī)廢氣凈化器產(chǎn)品,是相同的,產(chǎn)品的基礎(chǔ)上,經(jīng)過多年的實踐,并做了進(jìn)一步的研究,設(shè)計,它使用一個******的吸附分解一個

2018-10-21 16:32:47

影響VOCs廢氣處理光催化技術(shù)的因素

影響VOCs廢氣處理光催化技術(shù)的因素 VOCs可與***氣中的NOx發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生O3等二次污染物。同時,VOCs與***氣中的顆粒物相互作用,形成次生有機(jī)氣溶膠,嚴(yán)重威脅著人類生活環(huán)境的

2018-10-19 14:46:15

工業(yè)廢氣處理印染廢氣改造工程

工業(yè)廢氣處理印染廢氣改造工程 廢氣處理設(shè)備工藝 印染工業(yè)廢氣的產(chǎn)生主要來自印染涂料和干燥兩個過程。印染的廢氣處理設(shè)備合適的處理方法有直接燃燒焚化和催化焚燒,再生焚燒

2018-10-19 14:45:26

工業(yè)廢氣治理除臭凈化技術(shù)

工業(yè)廢氣治理除臭凈化技術(shù) 惡臭氣體是工業(yè)中較為明顯的廢氣污染。在塑料廠、制藥廠、瀝青防水材料廠、污水處理廠等,加工處理過程中會產(chǎn)生惡臭氣體,不僅嚴(yán)重影響生態(tài)環(huán)境,而